Intel hỗ trợ Nhật Bản sáng kiến "dùng chung’ máy quang khắc bán dẫn

Cơ sở nghiên cứu dự kiến sẽ đi vào hoạt động trong 3-5 năm tới, có trang bị các thiết bị quang khắc cực tím (EUV) hiện đại nhất. Theo đó, doanh nghiệp Nhật Bản có thể trả phí để sử dụng cơ sở này cho mục đích thiết kế và thử nghiệm. Đây sẽ là trung tâm R&D đầu tiên tại Nhật Bản mà thiết bị EUV có thể được “dùng chung”.

Viện Khoa học và Công nghệ Công nghiệp Tiên tiến Quốc gia Nhật Bản (AIST), hoạt động trực thuộc Bộ Kinh tế, Thương mại và Công nghiệp, sẽ điều hành cơ sở này, trong khi Intel sẽ cung cấp chuyên môn về sản xuất chip bằng công nghệ EUV. 

EUV là công nghệ thiết yếu để sản xuất chất bán dẫn ở quy mô 5 nanomet (nm) trở xuống. Mỗi cỗ máy EUV có giá hơn 40 tỷ Yên (273 triệu USD) - khoản đầu tư mà nhiều nhà cung cấp vật liệu hay sản xuất thiết bị khó có thể tự mình thực hiện.

Các công ty như vậy hiện đang sử dụng thiết bị EUV thuộc sở hữu của các viện nghiên cứu ở nước ngoài, chẳng hạn như Imec ở Bỉ, để phát triển sản phẩm của họ.

Tại Nhật Bản, Rapidus, công ty đặt mục tiêu sản xuất hàng loạt chất bán dẫn tiên tiến, có kế hoạch giới thiệu thiết bị EUV để sản xuất vào tháng 12, nhưng các viện nghiên cứu ở Nhật Bản cho đến nay vẫn chưa có thiết bị như vậy.

Với việc Mỹ thắt chặt lệnh hạn chế xuất khẩu liên quan đến EUV sang Trung Quốc, quá trình đưa dữ liệu thử nghiệm từ nước ngoài về Nhật Bản cũng trở nên tốn thời gian hơn. Do đó, việc cung cấp thiết bị EUV tại một viện nghiên cứu đặt trong nước sẽ giúp giải quyết vấn đề này.

ASML Holding của Hà Lan đang là nhà sản xuất độc quyền các thiết bị quang khắc EUV. Song, quá trình sản xuất chip bao gồm hơn 600 quy trình, do đó việc phát triển thiết bị và vật liệu liên quan là điều cần thiết.

Trong số các công ty Nhật Bản, Lasertec chiếm 100% thị phần thiết bị kiểm tra liên quan đến EUV, trong khi JSR và các công ty khác có thế mạnh về vật liệu nhạy sáng được sử dụng để chế tạo mạch. 

(Theo Nikkei Asia)